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武汉国家光电研究中心

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        工程规划用地面积43876.74平方米,大楼地上建筑面积89992.6平方米,地下建筑面积29998.5平方米,建筑总面积119991.1平方米。大楼地上八层,地下二层,建筑高度32.95米。地下部分主要包括人防区、车库区域、及各种设备功能房;地上部分主要包括科研成果展示区以及各类电信工程实验室、教室办公室、报告厅、不同规模会议室组成。


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